PHI GENESIS聚焦X射線光電子能譜儀的詳細資料

PHI Genesis 500是新一代配置了全自動多功能掃描聚焦X 射線光電子能譜，易操作式多功能選配附件，能夠實現全自動樣品傳送停放，同時還具備高性能大面積和微區XPS 分析，快速準確深度剖析，為電池、半導體、有機器件以及其他各領域提供多方面的解決方案。

簡單易操作

PHI GENESIS 提供了一種全新的用戶體驗，儀器高性能、全自動化、簡單易操作。

操作界面可在同一個屏幕內設置常規和高級的多功能測試參數，同時保留諸如進樣照片導航和SXI 二次電子影像準確定位等功能。

簡單友好的用戶界面

多功能選配附件

原位的多功能自動化分析，涵蓋了從LEIPS 測試導帶到HAXPES 芯能級激發的全范圍技術，相比于傳統的XPS 而言，PHI GENESIS 體現了良好的性能價值。

全面的優良解決方案:

高性能XPS、UPS、LEIPS、REELS、AES、GCIB 及多種其他選配附件可以滿足所有表面分析需求。

多數量樣品大面積分析

把制備好樣品的樣品托放進進樣腔室后將自動傳送進分析腔室內

可同時使用三個樣品托

80mm×80mm 的大樣品托可放置多數量樣品

可分析粉末、粗糙表面、絕緣體、形狀復雜等各種各樣的樣品

標準樣品托 40mm×40mm                                ?樣品托 80mm×80mm

可聚焦≤ 5μm 的微區X 射線束斑

在PHI GENESIS 中，聚焦掃描X 射線源可以激發二次電子影像（SXI），利用二次電子影像可以進行導航、準確定位、多點多區域同時分析測試以及深度剖析。

快速深度剖析

PHI GENESIS 可實現高性能的深度剖析。聚焦X 射線源、高靈敏度探測器、高性能氬離子設備和高效雙束中和系統可實現全自動深度剖析，包括在同一個濺射刻蝕坑內進行多點同時分析。

角分辨XPS 分析

PHI GENESIS XPS 的高靈敏度微區分析和高度可重現的中和性能確保了對樣品角分辨分析的性能。另外，樣品傾斜和樣品旋轉相結合，可同時實現角度的高分辨率和能量的高分辨率。

應用領域

主要應用于電池、半導體、光伏、新能源、有機器件、納米顆粒、催化劑、金屬材料、聚合物、陶瓷等固體材料及器件領域。

用于全固態電池、半導體、光伏、催化劑等領域的*功能材料都是復雜的多組分材料，其研發依賴于化學結構到性能的不斷優化。ULVAC-PHI,Inc. 提供的全新表面分析儀器“PHI GENESIS" 全自動多功能掃描聚焦X 射線光電子能譜儀，具有性能、高自動化和靈活的擴展能力，可以滿足客戶的所有分析需求。

多功能選配附件

UPS 紫外光電子能譜、LEIPS 低能反光電子能譜、AES/SAM 俄歇電子能譜、REELS 反射式能量損失譜、雙陽極X 射線源（Mg/Zr、Mg/Al）、Ar-GCIB 氬團簇離子源、Ar-GCIB 簇大小測量工具、C60 團簇離子源 （20KV）、樣品加熱冷卻模塊、4 電觸點加熱冷卻模塊、樣品保護傳送模塊、SPS 樣品定位系統等等。

平面圖

安裝要求